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Título : SINTESIS Y CARACTERIZACIÓN DE PELICULAS ULTRADELGADAS DE ÓXIDO DE HAFNIO IMPURIFICADO CON TERBIO
Autor : DR. GUZMÁN MENDOZA, JOSÉ
DR. GARCÍA HIPÓLITO, MANUEL
ING. MARTÍNEZ MERLÍN, IVAN ENRIQUE
Palabras clave : HAFNIO
TERBIO
PELICULAS
Fecha de publicación : 20-oct-2011
Resumen : In the present work, HfO2 ultrathin films were synthesized by the ultrasonic spray pyrolysis technique, from organometallic precursors and deposited on silicon, glass and quartz substrates. Different series of film deposition with three variable parameters: deposition temperature, deposition time and the concentration of the dopant were synthesized. The samples were characterized for the chemical composition analysis by X-ray Photoelectron Spectroscopy technique (XPS); the crystallographic structure was analyzed by X-ray diffraction; to determine the morphology and to measure the surface roughness we used atomic force microscopy (AFM) and; for the thickness determination profilometry and ellipsometry were used. The transparency of the sample in the visible region and the determination of the band gap energy were developed through UV-Vis spectroscopy and, photon and cathode luminescence were used for the analysis of their luminescent properties. The properties of the films were consistent with the expectations, showing: a thickness of 30 nm, the ability to emit visible light when they were irradiated with UV light, a low roughness when a temperature of 450 ºC was used for the synthesis, a high dielectric constant and, transparency in almost all the visible region of the electromagnetic spectrum when they were deposited at 450 ºC. It was found that the highest intensity of light emission was obtaining at 5% of Tb, emitting in the green color because its main emission is centered at 542 nm, originated from the electronic transition 4D47F5.
Descripción : En el presente trabajo de tesis se sintetizaron películas ultradelgadas de óxido de hafnio mediante la técnica de rocío pirolítico ultrasónico a partir de precursores organometálicos sobre sustratos silicio, vidrio y cuarzo. Se realizaron diversas series de depósitos de películas variando la temperatura de depósito, el tiempo de depósito y la concentración del impurificante (Tb), estableciendo valores fijos para los demás parámetros involucrados en el proceso. Las películas fueron caracterizadas en su composición química mediante la técnica de espectroscopia de fotoelectrones emitidos por rayos x (XPS, por sus siglas en inglés), se determinó su cristalinidad mediante la técnica de difracción de rayos X de ángulo pequeño, su morfología y rugosidad fueron evaluadas utilizando microscopía de fuerza atómica (MFA), su espesor fue medido utilizando elipsometría de ángulo fijo y perfilometría, su transparencia fue determinada por medio de espectroscopia UV-Visible, finalmente, sus propiedades luminiscentes fueron medidas utilizando espectroscopía fotoluminiscente. Las propiedades obtenidas en estas películas fueron las deseadas al obtener un espesor de 30 nm capaz de emitir luz al ser irradiada con luz ultravioleta. Otras propiedades que se obtuvieron fueron una baja rugosidad obtenidas en películas depositadas a una temperatura de 450°C sobre silicio, alta constante eléctrica y transparencia en la mayor parte del espectro electromagnético para películas depositadas a 450°C. Se encontró que la concentración que emitió con mayor intensidad fue a 5% de terbio, emitiendo luz en color verde debido a su banda de emisión principal centrada en 542nm perteneciente a la transición electrónica D4 4 → F5 7 .
URI : http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/16069
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