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Título : Low Vacuum Pulsed Laser Deposition for Growth of Carbon Thin Films
Autor : F. MartInez
L. Ponce
Palabras clave : Taller de Emprendedores e Innovación en Ciencia Y Tecnología Fotónica de Latinoamérica. Octubre 16-19, 2012 Tampico, México
Fecha de publicación : 16-oct-2012
Editorial : Taller de Emprendedores e Innovación en Ciencia Y Tecnología Fotónica de Latinoamérica page-36. Octubre 16-19, 2012 Tampico, México
Citación : Taller de Emprendedores e Innovación en Ciencia Y Tecnología Fotónica de Latinoamérica page-36. Octubre 16-19, 2012 Tampico, México
Resumen : Pulsed Laser Deposition (PLD) is an attractive technique for growth of thin films thanks the advantages in thickness control, the capability to obtain multi-component films, good cleanness and others. Nevertheless, the complexity and price of high vacuum systems are disadvantages that make it difficult to use on an industrial scale. This project presents the design and development of an installation to obtain growth of C layers by PLD using mechanical vacuum. Subsequently the purpose is the production of thin films and characterization of properties obtained in low vacuum.
URI : http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/15689
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