Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:
http://repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/15689
Título : | Low Vacuum Pulsed Laser Deposition for Growth of Carbon Thin Films |
Autor : | F. MartInez L. Ponce |
Palabras clave : | Taller de Emprendedores e Innovación en Ciencia Y Tecnología Fotónica de Latinoamérica. Octubre 16-19, 2012 Tampico, México |
Fecha de publicación : | 16-oct-2012 |
Editorial : | Taller de Emprendedores e Innovación en Ciencia Y Tecnología Fotónica de Latinoamérica page-36. Octubre 16-19, 2012 Tampico, México |
Citación : | Taller de Emprendedores e Innovación en Ciencia Y Tecnología Fotónica de Latinoamérica page-36. Octubre 16-19, 2012 Tampico, México |
Resumen : | Pulsed Laser Deposition (PLD) is an attractive technique for growth of thin films thanks the advantages in thickness control, the capability to obtain multi-component films, good cleanness and others. Nevertheless, the complexity and price of high vacuum systems are disadvantages that make it difficult to use on an industrial scale. This project presents the design and development of an installation to obtain growth of C layers by PLD using mechanical vacuum. Subsequently the purpose is the production of thin films and characterization of properties obtained in low vacuum. |
URI : | http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/15689 |
Aparece en las colecciones: | Congresos |
Ficheros en este ítem:
Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
---|---|---|---|---|
TIPST-LAT 37.pdf | 230.37 kB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |
Los ítems de DSpace están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.