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http://repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/11193| Título : | Propiedades ópticas y estructurales de películas de TiO2:N depositadas por RFsputtering reactivo. |
| Palabras clave : | Peliculas de TiO2 |
| Fecha de publicación : | 16-ene-2013 |
| Editorial : | Instituto Politecnico Nacional |
| Descripción : | Se prepararon películas delgadas de TiO2:N por la técnica de
RF-sputtering reactivo a partir de un blanco de titanio
metálico en una atmósfera O2/N2/Ar. Para obtener películas
con distinto contenido de nitrógeno la relación de flujos de
entrada O2/N2 fue modifica. Los espectros de DRX muestran
que las películas crecen en forma cristalina y que se favorece
la fase anatasa del TiO2 durante el depósito. Sin embargo,
para la mayor concentración nitrógeno se evidencía la
formación de TiN en fase tetragonal. Los espectros de
transmisión óptica muestran que el borde de absorción
presenta un corrimiento hacia longitudes de onda mayores
debido a la presencia de nitrógeno en la cámara de depósito. Articulo en extenso en memoria de simposio Instituto Politecnico Nacional. |
| URI : | http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/11193 |
| Otros identificadores : | 978-607-414-022-4 http://hdl.handle.net/123456789/703 |
| Aparece en las colecciones: | Doctorado |
Ficheros en este ítem:
| Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
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