Dependencia de las propiedades ópticas y estructurales con la concentración de oxígeno de películas delgadas de TiOx depositadas por RF-sputtering reactivo

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Título :	Dependencia de las propiedades ópticas y estructurales con la concentración de oxígeno de películas delgadas de TiOx depositadas por RF-sputtering reactivo
Palabras clave :	peliculas delgadas
Fecha de publicación :	16-ene-2013
Editorial :	Instituto Politecnico Nacional
Descripción :	Se prepararon películas de TiOx por la técnica de RF-sputtering reactivo a partir de un blanco de Ti en una atmósfera O2-Ar. Para obtener los subóxidos (TiOx) el contenido de oxígeno dentro de la cámara de crecimiento se controló a través de los flujos de entrada de los gases con fracciones O2/Ar de 0 a 2.5. Los espectros de DRX mostraron que las películas crecen amorfas y que después de tratamiento térmico a 700° C cristalizan, observándose la formación de subóxidos y la presencia de fases cristalinas del TiO2 como función del contenido de oxígeno. El ancho de banda de energía prohibida varía de manera no lineal con O2/Ar y tiene un valor máximo para las películas amorfas de 2.94 eV y para las películas cristalinas de 2.71 eV. Existen tres regiones de depósito. Articulo en extenso en memoria de simposio Instituto Politecnico Nacional
URI :	http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10945
Otros identificadores :	978-607-414-014-9 http://hdl.handle.net/123456789/454
Aparece en las colecciones:	Doctorado

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