Propiedades ópticas y estructurales de películas de TiO2:N depositadas por RFsputtering reactivo.

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Registro completo de metadatos

Campo DC	Valor	Lengua/Idioma
dc.creator	Hernandez-Rodriguez, E.	-
dc.creator	Zapata-Navarro, A.	-
dc.date	2012-03-27T23:39:02Z	-
dc.date	2012-03-27T23:39:02Z	-
dc.date	2008-12	-
dc.date.accessioned	2013-01-16T13:22:04Z	-
dc.date.available	2013-01-16T13:22:04Z	-
dc.date.issued	2013-01-16	-
dc.identifier	978-607-414-022-4	-
dc.identifier	http://hdl.handle.net/123456789/703	-
dc.identifier.uri	http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/11193	-
dc.description	Se prepararon películas delgadas de TiO2:N por la técnica de RF-sputtering reactivo a partir de un blanco de titanio metálico en una atmósfera O2/N2/Ar. Para obtener películas con distinto contenido de nitrógeno la relación de flujos de entrada O2/N2 fue modifica. Los espectros de DRX muestran que las películas crecen en forma cristalina y que se favorece la fase anatasa del TiO2 durante el depósito. Sin embargo, para la mayor concentración nitrógeno se evidencía la formación de TiN en fase tetragonal. Los espectros de transmisión óptica muestran que el borde de absorción presenta un corrimiento hacia longitudes de onda mayores debido a la presencia de nitrógeno en la cámara de depósito.	-
dc.description	Articulo en extenso en memoria de simposio	-
dc.description	Instituto Politecnico Nacional.	-
dc.language	es	-
dc.publisher	Instituto Politecnico Nacional	-
dc.subject	Peliculas de TiO2	-
dc.title	Propiedades ópticas y estructurales de películas de TiO2:N depositadas por RFsputtering reactivo.	-
dc.type	Article	-
Aparece en las colecciones:	Doctorado

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